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Defect Recognition and Image Processing in Semiconductors 1997

Proceedings of the Seventh Conference on Defect Recognition and Image Processing, Berlin, September 1997

J Doneker
Livre relié | Anglais | Institute of Physics Conference | n° 160
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Description

Defect Recognition and Image Processing in Semiconductors 1997 provides a valuable overview of current techniques used to assess, monitor, and characterize defects from the atomic scale to inhomogeneities in complete silicon wafers. This volume addresses advances in defect analyzing techniques and instrumentation and their application to substrates, epilayers, and devices. The book discusses the merits and limits of characterization techniques; standardization; correlations between defects and device performance, including degradation and failure analysis; and the adaptation and application of standard characterization techniques to new materials. It also examines the impressive advances made possible by the increase in the number of nanoscale scanning techniques now available. The book investigates defects in layers and devices, and examines the problems that have arisen in characterizing gallium nitride and silicon carbide.

Spécifications

Parties prenantes

Auteur(s) :
Editeur:

Contenu

Nombre de pages :
524
Langue:
Anglais
Collection :
Tome:
n° 160

Caractéristiques

EAN:
9780750305006
Date de parution :
01-01-98
Format:
Livre relié
Format numérique:
Genaaid
Dimensions :
156 mm x 234 mm
Poids :
938 g
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