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M Sugawara
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Description

This book focuses on the remarkable recent advances in understanding low pressure radio frequency glow discharges. It explains the basic analytical theory, plasma physics, and plasma diagnostics, before proceeding to the details of the etching process.

Spécifications

Parties prenantes

Auteur(s) :
M Sugawara
Editeur:
Oxford University Press

Contenu

Nombre de pages :
356
Langue:
Anglais
Collection :
Semiconductor Science and Technology
Tome:
n° 7

Caractéristiques

EAN:
9780198562870
Date de parution :
30-07-98
Format:
Livre relié
Format numérique:
Genaaid
Dimensions :
156 mm x 234 mm
Poids :
680 g
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